Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %

Smiljanić, Milče M.; Lazić, Žarko; Jović, Vesna; Rašljić, Milena; Cvetanović, Katarina; Vasiljević-Radović, Dana

Samo za registrovane korisnike

2015

Autori

Smiljanić, Milče M.

Lazić, Žarko

Jović, Vesna

Rašljić, Milena

Cvetanović, Katarina

Vasiljević-Radović, Dana

Ostalo (Objavljena verzija)

IHTM

Metapodaci

Prikaz svih podataka o dokumentu

Apstrakt

Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>.

Ključne reči:

TMAH / silicijum / vlažno hemijsko nagrizanje / konveksan ugao

Izvor:
2015

Izdavač:

Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy

TY  - GEN
AU  - Smiljanić, Milče M.
AU  - Lazić, Žarko
AU  - Jović, Vesna
AU  - Rašljić, Milena
AU  - Cvetanović, Katarina
AU  - Vasiljević-Radović, Dana
PY  - 2015
UR  - https://cer.ihtm.bg.ac.rs/handle/123456789/3980
AB  - Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH
koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za
izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum
dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu
strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim
uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani
konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>.
PB  - Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy
T1  - Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %
UR  - https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980
ER  -

@misc{
author = "Smiljanić, Milče M. and Lazić, Žarko and Jović, Vesna and Rašljić, Milena and Cvetanović, Katarina and Vasiljević-Radović, Dana",
year = "2015",
abstract = "Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH
koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za
izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum
dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu
strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim
uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani
konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>.",
publisher = "Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy",
title = "Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %",
url = "https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980"
}

Smiljanić, M. M., Lazić, Ž., Jović, V., Rašljić, M., Cvetanović, K.,& Vasiljević-Radović, D.. (2015). Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %. 
Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy..
https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980

Smiljanić MM, Lazić Ž, Jović V, Rašljić M, Cvetanović K, Vasiljević-Radović D. Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %. 2015;.
https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980 .

Smiljanić, Milče M., Lazić, Žarko, Jović, Vesna, Rašljić, Milena, Cvetanović, Katarina, Vasiljević-Radović, Dana, "Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %" (2015),
https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980 .