Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %
Samo za registrovane korisnike
2015
Autori
Smiljanić, Milče M.
Lazić, Žarko

Jović, Vesna

Rašljić, Milena

Cvetanović, Katarina

Vasiljević-Radović, Dana

Ostalo (Objavljena verzija)

IHTM
Metapodaci
Prikaz svih podataka o dokumentuApstrakt
Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH
koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za
izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum
dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu
strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim
uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani
konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>.
Ključne reči:
TMAH / silicijum / vlažno hemijsko nagrizanje / konveksan ugaoIzvor:
2015Izdavač:
- Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy
Finansiranje / projekti:
Kolekcije
Institucija/grupa
IHTMTY - GEN AU - Smiljanić, Milče M. AU - Lazić, Žarko AU - Jović, Vesna AU - Rašljić, Milena AU - Cvetanović, Katarina AU - Vasiljević-Radović, Dana PY - 2015 UR - https://cer.ihtm.bg.ac.rs/handle/123456789/3980 AB - Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>. PB - Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy T1 - Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. % UR - https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980 ER -
@misc{ author = "Smiljanić, Milče M. and Lazić, Žarko and Jović, Vesna and Rašljić, Milena and Cvetanović, Katarina and Vasiljević-Radović, Dana", year = "2015", abstract = "Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>.", publisher = "Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy", title = "Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %", url = "https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980" }
Smiljanić, M. M., Lazić, Ž., Jović, V., Rašljić, M., Cvetanović, K.,& Vasiljević-Radović, D.. (2015). Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %. Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy.. https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980
Smiljanić MM, Lazić Ž, Jović V, Rašljić M, Cvetanović K, Vasiljević-Radović D. Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %. 2015;. https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980 .
Smiljanić, Milče M., Lazić, Žarko, Jović, Vesna, Rašljić, Milena, Cvetanović, Katarina, Vasiljević-Radović, Dana, "Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %" (2015), https://hdl.handle.net/21.15107/rcub_cer_3980 .