Kompenzacija konveksnog ugla u vodenom rastvoru TMAH koncentracije 25 tež. %
Authorized Users Only
2015
Authors
Smiljanić, Milče M.
Lazić, Žarko

Jović, Vesna

Rašljić, Milena

Cvetanović, Katarina

Vasiljević-Radović, Dana

Other (Published version)

IHTM
Metadata
Show full item recordAbstract
Anizotropno vlažno hemijsko nagrizanje (100) silicijuma u vodenom rastvoru TMAH
koncentracije 25 tež. % na temperaturi od 80 C je novi tehnološki postupak koji se koristi za
izradu različitih trodimenzionalnih struktura. Osnova ove tehnike su nanošenje silicijum
dioksida, koji predstavlja maskirajući sloj, i fotolitografski postupak, kojim se definišu
strukture u pravcu <110> ili u pravcu <100> i odgovarajuće kompenzacije na konveksnim
uglovima. Nagrizanjem silicijuma kroz otvore u silicijum dioksidu dobijaju se kompenzovani
konveksni uglovi čiji su kraci duž pravca <110> ili duž pravca <100>.
Keywords:
TMAH / silicijum / vlažno hemijsko nagrizanje / konveksan ugaoSource:
2015Publisher:
- Belgrade : University of Belgrade - Institute of Chemistry, Technology and Metallurgy
Projects:
- Micro- Nanosystems and Sensors for Electric Power and Process Industry and Environmental Protection (RS-32008)