Tehnološki postupak izrade submikrometarskih stubića fotorezista za potrebe projektovanja plazmonskih senzora
Authorized Users Only
2017
Authors
Sarajlić, Milija
Jakšić, Zoran
Lazić, Žarko
Ranđelović, Danijela
Radulović, Katarina
Tanasković, Dragan
Other (Published version)
, IHTM CMT
Metadata
Show full item recordAbstract
Ovo tehničko rešenje predstavlja fotolitografski postupak kojim se rešava problem dobijanja kontrolisane periodične strukture sa dimenzijama manjim od dimenzija dizajniranih na fotolitografskoj masci [1].Na takav način moguće je smanjiti dimenzije izrađene strukture na oko 1mm u x-yravni. Prethodno ostvarene najsitnije strukture sa istim uređajem LaserWriter (LW405, MicroTech, Italija) u IHTM-CMT bile su oko 5mm [2]. Potreba za kontrolisanim periodičnim strukturama proizlazi iz njihove primene kod plazmonskih struktura koje se mogu koristiti kao optički filteri, hemijski i biološki senzori a takođe i kao plazmonski talasovodi.
Keywords:
plazmoni / plazmonski senzori / hemijski senzori / fotolitografija / direktno crtanje laserom / fotorezist / tanak sloj / aluminijum / plasmons / plasmonic sensors / chemical sensors / direct laser drawing / photoresist / thin layers / aluminium / photolitographySource:
2017Projects:
- Micro- Nanosystems and Sensors for Electric Power and Process Industry and Environmental Protection (RS-32008)
Note:
- Naručilac: NU IHTM-Centar za mikroelektronske tehnologije, Univerzitet u Beogradu; Realizator: NU IHTM-Centar za mikroelektronske tehnologije, Univerzitet u Beogradu; Godina izrade: 2017; Godina primene: 2017; Datum verifikacije: 26. 10. 2018; Primena od strane: NU IHTM-Centar za mikroelektronske tehnologije, Univerzitet u Beogradu; Naučna oblast: Tehničko-tehnološke nauke; Naučna disciplina: Elektronika, telekomunikacije i informacione tehnologije;