Samo korisnici prijavljeni u sistem mogu da vide ovaj dokument. Korisnici koji imaju kredencijale mogu da se prijave.
Prijava
Ako nemate pristup sistemu, popunite formular i zatražite kopiju dokumenta od osobe koja je za to odgovorna. Unesite sledeće informacije:
Morphology and internal structure of copper deposits electrodeposited by the pulsating current regime in the hydrogen co-deposition range
